粉底研磨分散機(jī)，粉底膠體磨，粉底分散機(jī)，化妝品分散機(jī)，化妝品研磨分散機(jī)，化妝品分散設(shè)備廠家

粉底的類型很多，粉底液、粉餅裝與散粉裝三種，這些粉底均用于調(diào)整膚色，改善面部質(zhì)感，遮蓋瑕疵，體現(xiàn)質(zhì)感，粉底的數(shù)值越大，顏色越深，使用時與膚色的色差不要過大，應(yīng)選擇與膚色接近的粉底。

粉底化妝品乳體液是有油、脂、蠟等許多原料混合而成的一種體系，因此混合機(jī)是重要的設(shè)備。為要制得高質(zhì)量的乳體液，必須選用符合生產(chǎn)要求的乳化設(shè)備。研磨分散機(jī)是一種剪切力很大的乳化設(shè)備，其主要部件是轉(zhuǎn)子和定子，轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速可達(dá)7890/13789RPM，這可以通過變頻調(diào)速通過皮帶加速，軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是普通膠體磨的3-4倍，研磨的力度也是普通膠體磨的3-4倍，這樣研磨的細(xì)度更小，效果更好)，可以迅速地將液體、固體或膠體粉碎成微粒，并且混合均勻。

粉底研磨分散機(jī)GMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

GMD2000 系列研磨分散設(shè)備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

工作原理：研磨分散機(jī)是由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

粉底研磨分散設(shè)備是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品：

第一級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

GMD2000系列研磨分散設(shè)備選型表

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