一、產(chǎn)品名稱關(guān)鍵詞：氧化鋁高剪切膠體磨,三氧化二鋁高速膠體磨,研磨分散機(jī),實(shí)驗(yàn)室小試膠體磨,18000rpm膠體磨

二、三氧化二鋁特性

Al2O3拋光液的缺點(diǎn)在于選擇性低、分散穩(wěn)定性不好、易團(tuán)聚等，但對(duì)于硬底材料藍(lán)寶石襯底等卻具有優(yōu)良的去除速率。不過(guò)，由于納米α-氧化鋁的硬度很高，因此拋光時(shí)易對(duì)工件表面造成嚴(yán)重的損傷；而且納米氧化鋁的表面能比較高，粒子易團(tuán)聚，也會(huì)造成拋光工件的劃痕、凹坑等表面缺陷。近年來(lái)對(duì)氧化鋁拋光液的研究主要集中在納米磨料制備、氧化鋁顆粒表面改性、氧化鋁拋光液混合應(yīng)用等方面。

三、常用的制備工藝

固相法。其中的硫酸鋁銨熱解法、改良拜爾法、爆炸法等是比較成熟的制備方法。固相法制備超細(xì)粉體的流程簡(jiǎn)單，無(wú)需溶劑，產(chǎn)率較高，但生成的粉體易產(chǎn)生團(tuán)聚，且粒度不易控制，難以得到分布均勻的小粒徑的高質(zhì)量納米粉體。

氣相法。主要有化學(xué)氣相沉淀法，通過(guò)加熱等方式改變物質(zhì)形態(tài)，在氣體狀態(tài)下發(fā)生反應(yīng)，之后在冷卻過(guò)程中形成顆粒。氣相法的優(yōu)點(diǎn)是反應(yīng)條件可以控制、產(chǎn)物易精制，顆粒分散性好、粒徑小、分布窄，但產(chǎn)出率低，粉末難收集。

液相法。常見(jiàn)的有水解、噴霧干燥、溶膠凝膠、乳化等幾種方法。液相法的優(yōu)點(diǎn)體現(xiàn)在：可精確控制產(chǎn)物的化學(xué)組成，納米粒子的表面活性高，形狀容易控制分散均勻，生產(chǎn)成本比較低，容易實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)。

四、高剪切膠體磨應(yīng)用于氧化鋁

高剪切膠體磨轉(zhuǎn)移因子膠體磨是專門(mén)為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。XM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料。

五、高剪切膠體磨
膠體磨XM2000系列特別適合于膠體溶液，超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，XM在摩擦狀態(tài)下工作，因此也被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)載和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口問(wèn)題，在工作中，分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散效果。XM2000整機(jī)采用幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

以下為型號(hào)表供參考：